纯度：99.95-99.9995%；
铝旋转靶采用真空熔炼工艺，可生产最大长度4000mm，厚度根据客户要求定制。
铝平面靶采用真空熔炼工艺，可生产最大长度2500mm，最大宽度400mm，尺寸可根据客户要求加工。
应用领域：薄膜太阳能工业，低辐射玻璃工业，平板显示工业，光学镀膜工业，工具及装饰镀膜工业。

名  称：高纯铝靶、铝颗粒、铝管靶			熔  点：660.4℃
符  号：Al			沸  点：2519℃
原子量：26.98			密  度：2.70g/cm3
纯  度：3N 4N 5N 5N5
产品名称	状态	纯度	尺寸	包装
高纯铝	靶材	5N 5N5	1-10英寸，可定制	片
高纯铝	颗粒	5N 5N5 6N	φ3*3mm，φ6*6mm	100g
高纯铝	丝状	5N 5N5	φ0.1-5mm	100g
高纯铝	片状	5N 5N5	0.03-10mm	1kg
产品优点	不纯物元素含量极低，导电性能好，光反射性能好，延展性好，耐腐蚀性能优良。
产品用途	芯片制造用靶材，先进封装用靶材。
产品附件	报价单/订购合同/装箱单/质检单/发票
产品包装	真空包装/真空中性包装/特殊包装外加固包装
制作工艺	通过控制晶粒的生长形态的偏析法提纯工艺，用于高纯铝，超高纯铝的提纯。
适用仪器	多种型号磁控溅射、热蒸发、电子束蒸发设备