铼靶材
铼靶材用于磁控溅射镀膜，磁控溅射镀膜是一种新型的物理气相（PVD）镀膜方式，相比于蒸发镀膜方式，其在很多方面有相当明显的优势，作为一项已经发展得较为成熟的技术，磁控溅射已经被应用于许多领域，比如在半导体集成电路、太阳能光伏、记录介质、平面显示以及工件表面涂层等方面都得到了广泛应用。
纯度：99.99%，99.999%；
可提供各种规格的铼溅射靶材，纯度高、密度高、致密均匀、晶粒细，具有优良导热性，从而保证靶材的高效率和高利用率