我司的氧化铌靶材采用先进的真空热压、热等静压、冷压烧结和热喷涂工艺生产，产品包括矩形靶、圆弧靶和管靶等类型。

纯度：99.99%；             

形状：圆柱形、平面；          

冷压烧结平面靶材尺寸：长宽范围10-600毫米（可根据客户的尺寸定制）。

管靶尺寸：外径50-160mm，厚度4-17.5mm ；长度200-4000mm（可根据客户的尺寸定制）；           

 密度：4.3 g/cm³～4.5g/cm³，相对密度＞99%；            

电阻率：小于0.1 ohm.cm（20 ℃） ；            

工艺：氧化铌旋转靶采用等离子喷涂工艺，氧化铌平面靶采用冷压烧结、真空热压、热等静压三种工艺均可提供    ；         

用途：氧化铌靶材，主要用于薄膜太阳能、光学玻璃镀膜、触摸屏AR膜、LOW-E玻璃膜（低辐射玻璃）、半导体、触摸屏、平板显示器、工具装饰镀膜等。