纯度：99.7%-99.999%（如2N8，2N6，4N，5N）
牌号： TA1，TA2，TA3，TC4(Ti6AL4V)，GR1，GR2，GR3，GR5( Ti6AL4V)
钛圆靶 ：技术条件：符合GB/T2695-1996，ASTMB348-97
钛板靶 ：技术条件：符合GB/T3621-94，ASTM B265-93
用途：用于半导体分离器件、平面显示器、储存器电极薄膜、溅射镀膜、工件表面涂层、玻璃镀膜工业、薄膜太阳能工业、节能玻璃工业、光学镀膜工业、工具及装饰镀膜工业等。
常规尺寸规格：
圆靶：常用规格：直径60/65/95/100*厚30/32/40/45mm
板靶：(8-25)mm * (150-400) mm * (1000-2500)mm
钛旋转靶采用真空熔炼工艺，可生产最大长度4000mm，厚度根据客户要求定制。
钛平面靶采用真空熔炼工艺，可生产最大长度2500mm，最大宽度400mm，尺寸可根据客户要求加工。
性能标准
化学成分符合 GB/T 3621-2007，GB/T 2965-2007，GB/T 3625-2007 等标准。
标准值
|
化学成分参考标准 |
|||||||||
|---|---|---|---|---|---|---|---|---|---|
|
牌号 |
Al |
V |
N≤ |
C≤ |
H≤ |
Fe≤ |
O≤ |
其他元素（单一） |
其他元素（总和） |
|
TA1 |
|
|
0.03 |
0.08 |
0.015 |
0.20 |
0.18 |
0.1 |
0.40 |
|
TA2 |
|
|
0.03 |
0.08 |
0.015 |
0.30 |
0.25 |
0.1 |
0.40 |
|
TC4 |
5.5-6.75 |
3.5-4.5 |
0.05 |
0.08 |
0.015 |
0.30 |
0.20 |
0.1 |
0.40 |
|
机械性能参考标准 |
||||
|---|---|---|---|---|
|
牌号 |
室温下力学性能，不小于 |
|||
|
抗拉强度 |
屈服强度 |
伸长率 |
断面收缩率 |
|
|
TA1 |
240 MPa |
170MPa |
25% |
30% |
|
TA2 |
345MPa |
275 MPa |
20% |
30% |
|
TC4 |
895MPa |
825 MPa |
10% |
20% |
其它靶材：
|
产品名称 |
化学符号 |
含量 |
性质 |
|---|---|---|---|
|
钛溅射靶材 |
Ti |
2N6,4N,5N |
平面靶材，旋转靶材 |
|
镍溅射靶材 |
Ni |
2N5, 3N |
平面靶材，旋转靶材 |
|
锆溅射靶材 |
Zr |
2N5 |
平面靶材，旋转靶材 |
|
钨溅射靶材 |
W |
3N5 |
平面靶材，旋转靶材 |
|
钼溅射靶材 |
Mo |
3N5 |
平面靶材，旋转靶材 |
|
钽溅射靶材 |
Ta |
3N5, 4N |
平面靶材，旋转靶材 |
|
铌溅射靶材 |
Nb |
3N5, 4N |
平面靶材，旋转靶材 |
|
铜溅射靶材 |
Cu |
3N8 |
平面靶材，旋转靶材 |
|
铝溅射靶材 |
Al |
4N |
平面靶材，旋转靶材 |
|
钛铝合金溅射靶材 |
Ti + Al |
2N7 |
平面靶材，旋转靶材 |
|
钼铌合金溅射靶材 |
Mo+Nb |
3N5 |
平面靶材，旋转靶材 |
|
钨钼合金溅射靶材 |
W+Mo |
3N5 |
平面靶材，旋转靶材 |
|
铌钨合金溅射靶材 |
Nb521 |
3N5 |
平面靶材，旋转靶材 |
|
铌钛合金溅射靶材 |
Nb+Ti |
2N5 |
平面靶材，旋转靶材 |
|
铌锆合金溅射靶材 |
Nb+Ti |
2N5 |
平面靶材，旋转靶材 |
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