铜靶材

纯度：99.95-99.999%；

铜旋转靶采用真空熔炼工艺，可生产最大长度4000mm，厚度根据客户要求定制。

铜平面靶采用真空熔炼工艺，可生产最大长度2500mm，最大宽度400mm，尺寸可根据客户要求加工。

应用领域：薄膜太阳能工业，低辐射玻璃工业，平板显示工业，光学镀膜工业，半导体工业，工具及装饰镀膜工业。